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工作原理
K-Alpha采用单色化Al Kα X射线源（1486.6eV）照射样品，激发表面1-10nm深度的光电子。光电子经半球形能量分析器分选后，由多通道电子倍增器检测，通过光电子动能与强度的关系生成能谱图。设备搭载赛默飞专利的“智能校准算法”，可自动修正电荷效应与仪器误差，结合灵敏度因子法实现半定量元素分析（精度±10%），符合ISO 15472与ASTM E1504标准。
应用范围
该仪器适用于材料科学（金属/半导体表面氧化态分析）、电子工业（芯片界面污染检测）、环境监测（大气颗粒物化学组成解析）及生物医学（生物材料表面功能化验证）等领域。其表面敏感性可精准解析纳米薄膜、催化剂活性层及聚合物表面改性效果，是表面与界面研究的核心工具。
产品技术参数
X射线源：单色化Al Kα（1486.6eV），功率300W
能量分辨率：0.5eV（Ag 3d?/?峰）
灵敏度：0.1%原子浓度（半定量分析）
扫描深度：1-10nm（依材料而定）
样品台：五轴自动样品台（X/Y/Z/旋转/倾斜，最大样品尺寸φ50mm）
真空系统：涡轮分子泵+离子泵（本底真空<5×10??mbar）
探测器：128通道电子倍增器（动态范围10?）
软件平台：Avantage（支持能谱解析、化学态标定、图像映射）
数据接口：千兆以太网、USB 3.0
电源：AC 100-240V（50/60Hz，功率≤2kW）
尺寸：1200mm×800mm×1500mm（重量≤800kg）
产品特点
高能量分辨率与灵敏度：0.5eV分辨率精准区分化学态（如氧化物与金属态），0.1%灵敏度适配痕量表面元素分析；
快速扫描与自动化：单点分析<5分钟，支持自动序列运行与电荷补偿；
多模式扩展能力：可选配紫外光电子能谱（UPS）模块或离子散射谱（ISS）附件；
智能化软件平台：Avantage软件支持自动峰识别、化学态数据库比对、图像映射与定量报告生成；
稳定真空系统：本底真空<5×10??mbar，减少样品污染风险；
安全防护设计：辐射防护罩、紧急停止、自动泄压阀，符合实验室安全规范；
合规认证：通过CE认证，符合ISO 15472、ASTM E1504标准。
K-Alpha提供一年整机质保与X射线源校准服务，其精准、高效、表面敏感的特性，成为X射线光电子能谱分析领域的高端解决方案，助力用户实现从基础研究到工业质量控制的全流程需求。
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辽宁 - 沈阳
2025年09月12日 ~ 14日
