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显微膜厚测量仪

416

规格/型号：F40

品牌：纳腾

应用领域：检测设备

产地：上海 - 上海

厂家/供应商：上海纳腾仪器有限公司

咨询电话:：021-6428 3335（请说明信息源自“BBIN宝盈集团网”）

更新时间：2025-07-07

级别：待认证

显微膜厚测量仪说明介绍

F40显微膜厚测量仪

KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。F40用于测量光斑<1?m的薄膜膜厚。

测量原理-光谱反射

光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质，半导体，和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光，它忽略偏振效应（绝大多数薄膜都是旋转对称）。因为不涉及多种移动设备，光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的首选，而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间，两种技术都可用。而且具有快速，简便，成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。

主要应用

测量厚度、折射率、反射率和穿透率：

单层膜或多层膜叠加

单一膜层

液态膜或空气层

技术能力

光谱波长范围：190-1700nm

厚度测量范围：1nm-250μm

测量n&k小厚度：50nm

准确度：取较大值，1nm或0.2%

精度：0.02nm

稳定性：0.05nm